● 想了解產(chǎn)品涂鍍層質(zhì)量狀況；
● 想改進(jìn)涂鍍層技術(shù)與工藝；
● 想提升產(chǎn)品表面性能；
● 想延長產(chǎn)品使用壽命。
● 資質(zhì)全 ● 出報告快 ● 數(shù)據(jù)準(zhǔn) ● 服務(wù)好
鍍層厚度測量是評價電鍍工藝好壞和電鍍產(chǎn)品是否符合技術(shù)規(guī)范要求的一種重要手段。電鍍厚度檢測方法有破壞法和非破壞法兩大類。破壞法主要有顯微鏡法、庫侖法、重量法、輪廓儀法、掃描電鏡法，非破壞法主要有磁性法、渦流法、X射線光譜法等。
不同鍍層厚度檢測方法之比較:
檢測方法 | 測試標(biāo)準(zhǔn) | 適用范圍 |
顯微鏡法 （金相法） | GB/T 6462 ISO 1463 ASTM B487 JIS H 8501 | 適合測量單層或多層金屬覆蓋層厚度 鍍層厚度不小于0.8μm 測量范圍：1∽數(shù)百μm |
庫侖法 | GB/T 4955 ISO 2177 ASTM B504 JIS H 8501 | 適合測量單層或多層金屬覆蓋層厚度 常測鍍層種類：Au、Ag、Zn、Cu、Ni、Cr 測量范圍：0.25∽100μm |
磁性法 | GB/T 4956 ISO 2178 ASTM B499 JIS H 8501 | 適用于磁性基體上的非磁性覆蓋層厚度測量 測量范圍：5∽7500μm |
渦流法 | GB/T 4957 ISO 2360 ASTM B244 JIS H 8501 | 適合測量非磁性基體上非導(dǎo)電覆蓋層和非導(dǎo)體上金屬覆蓋層厚度 測量范圍：5∽2000μm |
X-射線光譜法 | GB/T 16921 ISO 3497 ASTM B568 JIS H 8501 | 可測量最多三層的金屬覆蓋層厚度 測量范圍：0.25∽30μm |
掃描電鏡法（SEM） | GB/T 31563 ISO 9220 ASTM B748 JIS H 8501 | 適合測量單層或多層金屬覆蓋層厚度 測量范圍：1∽數(shù)百μm |
標(biāo)準(zhǔn)參考：
GB/T 6462-2005 金屬和氧化物覆蓋層 厚度測量 顯微鏡法
GB/T 4955-2005 金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量 陽極溶解庫侖法
GB/T 4956-2003 磁性基體上非磁性覆蓋層 覆蓋層厚度測量 磁性法
GB/T 4957-2003 非磁性基體金屬上非導(dǎo)電覆蓋層 渦流法
GB/T 16921-2005 金屬覆蓋層覆蓋層 厚度測量 X射線光譜方法
GB/T 31563-2015 金屬覆蓋層 厚度測量 掃描電鏡法
ASTM B487-24通過橫截面顯微鏡檢查測量金屬和氧化物涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
ASTM B504-90(2023) 用庫侖法測量金屬鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
ASTM B499-09(2021)e1 用磁性法測量磁性基體金屬上的非磁性涂層的涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
ASTM B244-09(2021) 用渦流儀測量鋁陽極涂層及其它非磁性基體金屬非導(dǎo)電涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
ASTM B568-98(2021) 用X射線光譜儀測量覆蓋層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
ASTM B748-90(2021) 金屬覆蓋層厚度測量 掃描電鏡法
JIS H 8501:1999 金屬覆蓋層厚度試驗(yàn)方法
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